一、"N" 或 “W”峰出现的原因
 

　　1、TCD操作，用N2作载气由于热传导率非线性引起；
 

　　2、FID操作时，样品溶剂电离效率低(如CS2)，或气流比欠佳时；
 

　　3、ECD操作时，由于检测器被污染，溶剂峰或待测组分含量较高，或脉冲电源有毛病。
 

　　二、舌头峰(前延峰)出现的原因
 

　　1、汽化温度偏低；
 

　　2、载气流量小：
 

　　3、进样量大，汽化时间长；
 

　　4、汽化室被污染，样品有吸附效应；
 

　　5、样品在柱头有冷凝或色谱柱被污染；
 

　　6、进样技术差(挥发性组分的进样速度太慢)；
 

　　7、峰前出现了“鬼”峰。